集微網(wǎng)消息，據(jù)日媒報道，全球最大的半導(dǎo)體濺射靶材廠商—JX日礦于3月16日宣布，繼在美國亞利桑那州建廠后，將在茨城縣常陸那珂市征地建設(shè)另一家半導(dǎo)體濺射靶材工廠。
擬征地用地面積為240000平米，日媒稱預(yù)計投資額約為2000億日元，新工廠將從 2025 年初陸續(xù)投產(chǎn)。
據(jù)介紹，該公司基于對半導(dǎo)體濺射靶材和壓延銅箔/高性能銅合金帶材等先進材料供求狀況的評估，為滿足緊迫的下游需求，做出了這一投資決定。
此外，除現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射靶材、壓延銅箔、高性能銅合金帶材等業(yè)務(wù)外，JX日礦還表示將大力發(fā)展面向6G時代的晶體材料技術(shù)，此前其已投資了新一代高頻無線通信氧化鎵晶體研發(fā)企業(yè)Novell Crystal。（校對/樂川）